JEBG系列大功率電子槍是在真空中蒸發(fā)或熔解金屬及氧化物的大功率電子束發(fā)生源，能在不斷輸送中的寬幅塑料和大面積玻璃基板上高速率地連續(xù)鍍膜，此外在電子束熔煉時，可用于高熔點金屬錠的生產(chǎn)及提純。
電子束能大范圍地快速掃描，通過專用の控制裝置和軟件，能生成各種電子束照射圖形和區(qū)域。由于能夠在各個照射位置上設定掃描、停留時間、輸出功率及電子束形狀，因而能夠控制熔融面和膜厚分布。
用途
真空蒸鍍
阻隔膜、保護膜、電極膜、導電膜、磁性膜等薄膜的形成。
真空熔解
生產(chǎn)和提煉Ti、Ta、Nb、 Mo等高熔點金屬錠。
提煉太陽能電池多晶硅
| 型號 | EBG-300UA | JEBG-1000UB | JEBG-3000UB |
| 最大輸出功率 |
30kW (20kV, 1.5A) |
100kW (30kV, 3.4A) |
300kW (40kV, 7.5A) |
| 最大偏轉(zhuǎn)角 | ±30° | ||
| 掃描范圍 | X, Y 軸 | ||
| 最大掃描頻率 | 300Hz | 200Hz |
200Hz (300Hz: 選配) |
| 適用電源 | ST-30BE2 | JST-100C | JST-300CHR |
